Лаборатория за получаване на 2D материали и нанослоеве
Проект BG05M2OP001-1.001-0008 | Национален център по мехатроника и чисти технологии
Ръководител: проф. дфн. Вера Маринова (ИОМТ-БАН)
e-mail: vmarinova@iomt.bas.bg
тел. 0886895767
Лабораторията извършва синтез на 2D (двудименсионни) материали чрез Химично отлагане от газова фаза (CVD), сепариране на разтвори и частици, отлагане на тънки покрития чрез центрофугиране, оптични и опто-електрични измервания. Потенциални партньори/клиенти могат да бъдат научно-изследователски колективи в страната и чужбина, както и фирми, свързани с нано-оптоелектроника, спинтроника, зелени технологии, сензорика и здравеопазване.
ДЕЙНОСТИ
Лабораторията разработва нанослоеве от 2D двудименсионни материали като графен и халкогениди на преходни метали, извършва микроскопски анализ, както и оптични и опто-електрични измервания.
- Контролиран синтез на нанослоеве от халкогениди на преходни метали върху различен тип подложки;
- Контролиран синтез на графен и трансфер върху различен тип подложки;
- Синтез на борен нитрид (h-BN);
-
Сепариране на разтвори, съдържащи различен вид частици чрез центрофугиране на високи обороти и отлагане на тънки слоеве чрез центрофужно нанасяне:
− Процесор за центрофужно отлагане на тънки слоеве в химична камина
− Контрол на получените слоеве с оптичен микроскоп; - Извършване на оптични измервания;
- Извършване на електро - оптични измервания;
- Асемблиране на структури и устройства за нано-опто-електрониката.
УСЛУГИ
- Контролиран синтез на нанослоеве от халкогениди на преходни метали върху различен тип подложки;
- Контролиран синтез на графен и трансфер върху различен тип подложки;
- Синтез на борен нитрид (h-BN);
- Сепариране на разтвори, съдържащи различен вид частици чрез центрофугиране на високи обороти;
- Оптимизиране на условията за отлагане на тънки слоеве от различни материали и композити;
- Трансфериране на тънки слоеве от обемни кристални материали чрез ексфолиране;
- Анализи на Оптичен Микроскоп;
- Изследване на светлинно-индуцирани процеси, оптични и електро-оптични характеристики;
- Асемблиране на органични-неорганични структури на основата на 2D нанослоеве с фоточувствителни материали/течни кристали за приложения във фотониката.
оборудване
Лабораторията разполага със :
CVD СИСТЕМА (PLANARGROW-2S/2S-TMD)
с два хоризонтални тръбни реактора и две независими температурни зони (максимални температури 450° С и 1100 °С) за всеки реактор за отлагане на 2D нанослоеве от халкогениди на преходни метали (TMDCs) и h-BN. Контролирано подаване на работни /реакционни газове – аргон и водород. Скрубер за обработка на изходящите газове. Напълно автоматизирана с-ма с компютърно управление.
НАНО CVD СИСТЕМА (NANOCVD-8G, MOORFIELD NANOTECHNOLOGY)
за отлагане на висококачествен графен с реактор със студени стени и термична поставка с малка маса за бързо нагряване и охлаждане; автоматичен контрол на процесите, максимална температура 1100°С. Контролирано въвеждане на работните газови потоци от аргон, водород и метан.
Центрофуга за нанасяне на тънки слоеве
Характеристики: Laurell Technologies, Модел – WS-650Mz-23NPPB
Максимална скорост на въртене 12 000 об./мин;
Ускоряване: до 13 000 об./за сек;
Вакуумен държач;
Размер на подложките: до 150 мм диаметър;
Позволява време на въртене до 99 мин. и 59.9 сек.
Високо скоростна сепарираща центрофуга
-Характеристики: Марка – Beckman Coulter, Модел – Allegra 64R
максимална скорост на въртене 30 000 об./мин;
температурен диапазон от -20 до +40 градуса;
възможност за центрофугиране на количества от 0.250мл.
СИСТЕМА ЗА ПОДГОТОВКА НА ОБРАЗЦИ ЗА НАНАСЯНЕ НА НАНО ПОКРИТИЯ,
включваща химична камина и процесор за центрофужно отлагане (SPIN-150i -NPP Table Top, SPS); скорост на въртене 1 – 12,000 об./мин; ускоряване до 30,000 об/сек. Подходящ за всички типични процеси на центрофугиране: почистване, изплакване/изсушаване, покритие, проявяване и ецване.